中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司基本信息

中国科学院沈阳科学仪器研制有限公司原PECVD事业部(现沈阳拓荆科技有限公司)成立于2006年，并于2010年4月由中国科学院沈阳科学仪器研制有限公司及海外技术专家团队在原PECVD事业部基础上组织独立的高新技术企业-沈阳拓荆科技有限公司，承担国家科技部 “十一五”重大专项(90-65nm等离子体增强化学气相沉积设备研发与应用)。公司致力于研究和生产世界领先的极大规模集成电路行业专用薄膜设备，矢志成为纳米级薄膜制造技术解决方案的领导者。
公司座落于沈阳国家级高新技术产业区——浑南新区，拥有最高级别的洁净厂房及国际一流的薄膜检测设备。其主营产品6-12英寸PECVD设备是国际先进的半导体薄膜制造设备，填补国内空白。
公司遵循国际化企业运营模式，引进了一批在全球的薄膜设备设计及工艺研发领域处于顶级的海外半导体技术专家，也聚集了多年从事该领域研发的本土专业人才。他们共同组成了一支素质高、专业经验丰富的管理和技术团队。公司现有员工七十余人，博士7人，硕士以上占员工总数的65%，学士以上占到总人数的95%。现因公司发展需要面向社会诚招各界优秀人士的加盟。