中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 PECVD事业部基本信息

中国科学院沈阳科学仪器研制有限公司原PECVD事业部(现拓荆科技有限公司)成立于2006年，并于2010年4月由中国科学院沈阳科学仪器研制有限公司及海外技术专家团队在原PECVD事业部基础上组织独立的高新技术企业-沈阳拓荆科技有限公司，承担国家科技部 “十一五”重大专项(90-65nm等离子体增强化学气相沉积设备研发与应用)。公司致力于研究和生产世界领先的极大规模集成电路行业专用薄膜设备，矢志成为纳米级薄膜制造技术解决方案的领导者。
公司座落于沈阳国家级高新技术产业区——浑南新区，拥有最高级别的洁净厂房及国际一流的薄膜检测设备。其主营产品6-12英寸PECVD设备是国际先进的半导体薄膜制造设备，填补国内空白。
公司遵循国际化企业运营模式，引进了一批在全球的薄膜设备设计及工艺研发领域处于顶级的海外半导体技术专家，也聚集了多年从事该领域研发的本土专业人才。他们共同组成了一支素质高、专业经验丰富的管理和技术团队。公司现有员工七十余人，博士7人，硕士以上占员工总数的65%，学士以上占到总人数的95%。
作为半导体装备制造业的一颗新星，公司愿与全球领域内的各界朋友进行多种形式的合作和交流，建立真诚、友好、互惠互利、共赢的产业合作联盟，为中国及世界半导体电子装备产业的发展做出贡献。
相关福利待遇：
1.上述各职位均要求具备相关工作经验，热爱半导体事业；专业基础知识扎实，积极主动，认真负责，勇于承担责任；善于沟通，有团队合作精神，有独立的工作能力及较强分析和解决问题能力。
2.以上人员一经录用，公司将提供良好的学习机会与发展空间及相关福利（六险一金、免费通勤、伙食补助、双休、带薪年假、外地单身人员住宿及住宿补助等）
电话： 31696624 李小姐
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