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安内华弘塑(上海)半导体设备有限公司 认领

  上海   11-50 员工  民营公司

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安内华弘塑(上海)半导体设备有限公司基本信息

公司全称安内华弘塑(上海)半导体设备有限公司

公司简称

网址

类型民营公司

地区上海

地址上海保税区加太路29号佳隆大楼第3层A部位

行业 电子技术/半导体/集成电路

公司介绍
安內華股份有限公司(Anelva Corporation)簡介
安內華股份有限公司係日本知名之電子元件設備及半導體設備製造公司, 其因英文名稱Anelva係由”Analysis”(分析)、”electronics”(電子工程學)、及”vacuum”(真空)三字摘錄而成。
玆將其創設日期及沿革、資本額、近三年來營業額、主要產品及營業專案、營業據點及員工人數、客戶實績、公司地址等條述於後:
1.    創設日期及沿革:1967年10月創立,原名為Nichiden Varian.
1979年11月更名為Nichiden Anelva.
1995年10月定名為Anelva Corporation.同年獲得ISO-9001認證。
1998年10月獲得ISO-14001認證
2.    資本額: 日幣十八億元(JPY1.8 Billion)
3.    近三年來營業額:
1999年:四百一十億日圓(JPY41,000,000,000)
2000年:六百二十八億日圓(JPY62,800,000,000)
2001年:四百一十一億日圓(JPY41,100,000,000)
4.    主要產品及營業項目
[1].真空薄膜沈積及製程設備
半導體設備:物理氣相沈積(PVD), 濺鍍機(sputter), 化學氣相沈積(CVD)
乾蝕刻機(dry etching system)
‚平板顯示器設備:
2.1.用於製造液晶顯示器之電漿化學氣相沈積系統 (P-CVD)
2.2.用於製造液晶顯示器之濺鍍機 (Sputtering system for LCD)
2.3.液晶填充機 (LCD filling system )
ƒ電子元件設備:
3.1.用於製造硬盤之濺鍍機 (Sputtering system for HD)
④研發設備
4.1.實驗型濺鍍機(sputtering)
4.2.乾蝕刻機(Dry Etching system)
⑤其他特殊設備
5.1.真空蒸鍍機
5.2.電子迴旋共振系統
5.3.反應式離子蝕刻機
5.4.螺旋波電漿系統
5.5.銅化學氣相沈積系統
5.6.MRAM制程設備
[2]真空零組件
真空泵:乾/濕式真空泵、超低溫冷凝真空泵
‚氦氣測漏儀
ƒ分析量測設備:真空量測計 分壓真空計 質譜儀 沈積控制器
氣體分壓控制器
④真空零組件:管件.閥,供輸器,電子束槍,離子槍,觀察埠,自動氣壓控制器,背封等。
[3] 保養服務
維修保養服務
備份零件銷售
清洗維護
5.營業據點及員工人數
日本總部,美國、英國、韓國、台灣分公司等地計23個營業處,合計1,221人。
6.客戶實績:
6.1.美國:IBM, Intel, Micron, Komag, Seagate, VLSI, AMD, Cypress etc..
6.2.日本:NEC, Hitachi, Panasonic, Fujitsu, Mitsubishi, Sharp, Sanyo, Sony, Rohm, OKI and other famous electronic device maker and semiconductor manufacturer in Japan.
6.3.臺灣:TSMC(含臺灣積體電路),旺宏,NDL, 茂矽,南亞科技,世界先進,力晶,華邦,奇美光電及廣輝電子等。
6.4.中國:華虹NEC,首鋼NEC,新進半導體,清華大學,上海交通大學,杭州士蘭集積回路。
6.5.韓國:Samsung, LG, Philips, Hynix.
7.公司地址:
5-8-1,Yotsuya, Fuchu-shi, Tokyo 183-8508, Japan
TEL:+81-42-334-0205
FAX:+81-42-368-1877
URL:http://www.anelva.jp/
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